O princípio da máquina de revestimento da série PVD 3D é baseado principalmente na tecnologia de deposição física de vapor (PVD), que é uma tecnologia que utiliza métodos físicos para converter materiais sólidos (alvos) em átomos, moléculas ou íons gasosos em um ambiente de vácuo, e os deposita na superfície do substrato para formar uma película fina. A tecnologia PVD inclui dois processos principais, evaporação e pulverização catódica, ambos realizados em ambiente de alto vácuo para garantir a pureza e adesão do filme. Processo de evaporação: Os materiais sólidos são aquecidos por uma fonte de aquecimento para sublimá-los ao estado gasoso e, em seguida, depositados na superfície do substrato em uma câmara de vácuo para formar uma película fina. Este método pode usar feixe de elétrons ou aquecimento por resistência para aquecer o material alvo até que ele evapore, e os átomos ou moléculas evaporados sejam depositados no substrato no vácuo. Processo de pulverização catódica: O material sólido é pulverizado da superfície do material alvo com a ajuda de bombardeio de íons ou gás inerte e, em seguida, depositado na superfície do substrato. O revestimento por pulverização catódica é o processo de deposição de materiais sólidos na superfície de um substrato usando bombardeio de íons em um ambiente de vácuo para formar uma película fina.
